Читать полностью на DailyTechInfo.Org - Процесс внутреннего горения использован для производства тонкопленочных транзисторов.
Команда ученых разработала технологию, использующую высокую температуру химической реакции горения атомов металла и кислорода для формирования тонкопленочных полупроводниковых покрытий при низких температурах. Это открытие может проложить путь гибкой тонкопленочной электронике следующего поколения. Работа, в которой описывается получение полупроводниковых тонкопленочных покрытий с различными составами, появилась в воскресенье в журнале Nature Materials.
Комментариев нет:
Отправить комментарий