
Читать полностью на DailyTechInfo.Org - Новая технология микроскопии облегчит разработку и обеспечит контроль производства трехмерных полупроводниковых чипов
Ученые из Национального института стандартов и технологий (National Institute of Standards and Technology, NIST) модернизировали разработанную ими несколько лет назад технологию оптической микроскопии и приспособили ее для обеспечения обзора наноразмерных объектов, что позволяет произвести контроль производства элементов трехмерных полупроводниковых чипов нового поколения. С помощью этой технологии, называемой TSOM (Through-Focus Scanning Optical Microscopy), можно не только рассмотреть наноразмерные компоненты чипов, которые до недавнего времени были двухмерными конструкциями, ни и с достаточно высокой точностью определить различия в их формах и размерах, что и требуется для проведения технологического контроля.
Комментариев нет:
Отправить комментарий